Overlay是將工藝的上一層與下一層對準的過程。Overlay誤差定義為這兩層之間的偏移。Overlay測量是在兩個不同的結構上測量，這兩個結構是由不同制造進程中生成，大多數情況下由不同的材料組成。

衡量Overlay測量，一種常見的特征結構是“Box-in-Box”。為了精確測量，軟件必須識別和學習內Box和外Box的中心位置以及邊界，以定義理想的測量參數，學習的結果將顯示在窗口中。如下左圖所示，除了Box-in-Box結構外，MueTec系統還可以測量Frame-in-Frame，L-Bars，Circle-in-Circle，Cross-in-Cross或任何其他自定義的Overlay結構。

顯著特點

√ 可配備紅外照明的系統能夠支持頂部表面、底部表面以及內部的測量

√ 通過特定的算法，Overlay測量可應用于工藝階段如STI（溝槽隔離）、CMP（化學機械拋光）之后的低對比度的情況

√ 選擇特殊的均質物鏡，確保成像效果，從而獲得更好的測量結果

√ 為了將Overlay測量性能優化到最高水平，參數配置（例如物鏡的照明均勻性和光學質量之類的參數）可進行自動校正，TIS可通自動校正功能進行補償。校正參數可被記錄在每一類晶圓的參考任務中，并自動補償到后續的測量中。

MueTec為解決這些關鍵問題付出了數十年的努力。最終獲得了一種用戶友好的Overlay測量工具，提供最高的精度和產能、最佳的可重復性和自動化以及最低的TIS。