MueTec為掩膜的生產與檢測提供高精度和高重復性系統,包括但不限于COG和PSM掩模。測量包括掩模上CD一致性的分布,同時提供可見光和紫外光照明,均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于測量最小至300nm的特征尺寸,3sigma重復性通常在納米范圍內。

對于掩膜來料測量和檢測,MueTec提供長距離工作物鏡,用于通過保護膜的測量。


PRODUCTS
  • DaVinci 270UV
    密封式CD測量
    DaVinci 270UV

    典型應用

    CD測量


    主要特點

    自動化動裝卸

    可見光,紫外光,反射光,投射光

    靈活配置



  • MT270UV
    開放式半自動測量檢測系統(OC)
    MT270UV

    典型應用

    CD測量

    Overlay測量

    膜厚測量

    缺陷檢測

    缺陷review


    主要特點

    手動裝卸

    可見光,紫外光

    支持75-200mm晶圓

    支持KLARF/TSK文件輸出

    SECS/GEM

A级毛片高清免费网站不卡,A级毛片高清免费网站不卡,A级毛片免费观看