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MueTec為掩膜的生產與檢測提供高精度和高重復性系統，包括但不限于COG和PSM掩模。測量包括掩模上CD一致性的分布，同時提供可見光和紫外光照明，均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于測量最小至300nm的特征尺寸，3sigma重復性通常在納米范圍內。
對于掩膜來料測量和檢測，MueTec提供長距離工作物鏡，用于通過保護膜的測量。
典型應用
CD測量
主要特點
自動化動裝卸
可見光，紫外光，反射光，投射光
靈活配置
Overlay測量
膜厚測量
缺陷檢測
缺陷review
手動裝卸
可見光，紫外光
支持75-200mm晶圓
支持KLARF/TSK文件輸出
SECS/GEM
